殘余應力測量

簡要描述：該系統(tǒng)利用PEM調制光束的偏振狀態(tài)、先進探測和解調電子來測量光學如何改變偏振狀態(tài)。這就導致了一個偏振狀態(tài)相對于另一個偏振狀態(tài)的光延遲測量結果是90°。利用這些數(shù)據(jù)可以對雙折射、快速軸向和理論殘余應力測量進行評估。在平板透鏡和己完成透鏡的研究和生產中， HindsInstruments和Exicor斜入射角技術被用于評估光學雙折射

產品型號：OIA
廠商性質：代理商
更新時間：2022-09-27
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利用光彈調制器技術，Hinds 公司的應力雙折射測量系統(tǒng)(殘余應力測量)可以在深紫外（193nm）波段進行應力雙折射探測。針對特定材料制作（氟化鈣）和特定形狀（非球面透鏡）的技術解決方案。

應力雙折射測量系統(tǒng)，非球面透鏡應力雙折射測量，應力橢偏儀，應力橢偏測量,殘余應力測量

Hinds 公司的不規(guī)則非球面光學元件應力分布測量系統(tǒng)（應力雙折射測量系統(tǒng)）通過對光的調制解調可以測出待測光學元件中的雙折射大小和方向，這些數(shù)據(jù)同時也表示了應力的大小和方向。Hinds 公司這套不規(guī)則非球面光學元件應力分布測量系統(tǒng)的傾斜，多角度入射掃描技術可以保證對非球面不規(guī)則的光學元件（光刻機透鏡等）有著的掃描測量解決方案。

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